Projection plasma
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La projection plasma implique la pulvérisation d'un matériau fondu ou ramolli à la chaleur sur une surface pour fournir un revêtement, en utilisant des gaz inertes comme gaz plasma et gaz vecteur. Dans le procédé de projection au plasma, le matériau à déposer, généralement sous forme de poudre, parfois sous forme de liquide, de suspension ou de fil, est introduit dans le jet de plasma, émanant d'une torche à plasma. Dans le jet, où la température est de l'ordre de 20 000 K ou plus, le matériau est fondu et propulsé vers un substrat. Là, les gouttelettes fondues s'aplatissent, se solidifient rapidement et forment un dépôt. Les gaz plasma les plus courants sont l'argon, l'hélium, l'azote et l'hydrogène. Il est possible d'employer un seul gaz ou un mélange gazeux.
Expertise et solutions en matière de projection plasma
- Argon - gaz de procédé essentiel à la projection plasma. Complètement inerte et facilement ionisé, il peut être utilisé comme gaz plasma primaire ou comme gaz secondaire avec de l'azote pour augmenter son énergie. Également utilisé comme gaz porteur de poudre.
- Hydrogène - utilisé comme gaz de procédé dans les applications de projection plasma atmosphérique.
- Hélium - coefficient de transfert de chaleur et conductivité thermique élevés; également utilisé comme gaz secondaire avec de l'argon dans les applications de projection plasma.
- Azote - une grande variété d'utilisations dans les procédés de projection thermique, en particulier comme gaz porteur.
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